Le Congrès International de Métrologie revient du 19 au 21 septembre 2017 à Paris, en conjonction avec le Salon ENOVA.
Cette manifestation, à vocation industrielle, permet :
D’améliorer ses processus de mesure, d’analyse et d’essais, et ainsi maîtriser ses risques,
De suivre les évolutions des techniques, les avancées R&D et découvrir des applications industrielles pratiques,
De trouver sur l’exposition des technologies et solutions de mesure.
Le public est large et tous les secteurs industriels s’y retrouvent :
Utilisateurs de moyens de mesure de toutes industries et laboratoires,
Responsables fiabilité et qualité, managers et décideurs,
Fabricants d’appareils de mesure, distributeurs et prestataires,
Enseignants et chercheurs.
Les conférences concernent :
Les processus : incertitudes, étalonnage, vérification, formation, optimisation des coûts ...
Les techniques : masse, force, débit, dimensionnel, électricité, température, optique, mesures chimiques, mesures biologiques ...
Les perspectives : mesures dynamiques, fabrication additive, data métrologie, réseaux intelligents, nanotechnologie, biotechnologie et santé, préoccupations environnementales ...
Les tables rondes donneront lieu à des débats directs :
Drones et surveillance
Déclarations de conformité et évolution de l’ISO 17025
Mesures dynamiques et usine du futur
Progrès en mesure à l’échelle nano
Métrologie dans l’industrie pharmaceutique
Mesures pour la qualité de l’eau
Le CIM 2017 s’affiche également avec des partenariats élargis : la DGE et le Ministère de l’Economie et des Finances accompagne l’événement, le Réseau Mesure sera présent en force sur le Village Métrologie situé au sein de l’exposition, la société Trescal vient de confirmer son sponsoring de premier niveau pour la manifestation.